1.流體拋光：依靠高速流動的液體及其攜帶的磨粒沖刷工件表面，達到拋光的目的。在液壓驅動下，攜帶磨粒的液體介質會透過噴砂槍在工件表面高速來回流動。本介質主要以低壓流動性良好的特殊化合物與綠碳化矽混合而成，可選用其碳化矽粉。
2.機械拋光：是依靠鑽石切割材料表面的塑性變形去除拋光凸部，獲得光滑表面的拋光方法。拋光片主要採用手工操作。對於迴轉體表面等特殊零件，可採用轉台等輔助工具。 ，如果表面品質要求高，可以採用超精磨拋光的方法。金剛
3.電解拋光：透過選擇性地溶解材料表面的微小突起，使表面光滑。與化學拋光相比，可以消除陰極反應的影響，效果更好。電化學拋光製程分為宏觀整平和微觀整平。
4.化學拋光：讓材料表面的微觀凸出部分比凹入部分優先溶解在化學介質中，從而獲得光滑的表面。無需複雜的設備即可拋光形狀複雜的工件，並且可以同時拋光多個工件，效率高。化學拋光的核心問題是拋光液的配製。
5.超音波拋光：將工件放入金剛砂懸浮液中，一起置於超音波場中，並依靠超音波的振盪，使其對工件表面進行磨削、拋光。超音波加工宏觀力小，不會造成工件變形，但工裝製造和安裝較困難。超音波加工可以與化學或電化學方法結合。